脉冲激光沉积 Pulsed laser deposition

2022-10-28 15:03:47 浏览:217

定义

一种用激光脉冲蒸发材料在基板上制造薄膜的方法。

脉冲激光沉积是一种制造各种材料薄膜的方法。在超高真空室内,固体(通常是陶瓷)目标被短的高能激光脉冲照射,该激光脉冲通过热或非热过程烧蚀一些材料并将其转化为等离子体。然后将烧蚀的材料作为无定形或结晶材料的薄膜沉积在基板上。调整激光脉冲的数量以获得所需的材料厚度,并且使用的几何形状对于实现具有均匀厚度的层非常重要。

理想情况下,激光脉冲在紫外光谱区域应具有较短的波长。因此,通常将调Q激光器与非线性变频器结合使用,或者直接产生紫外线的准分子激光器。

上升时间仅为几纳秒的脉冲不仅可以实现有效的非热烧蚀,还可以精确地保持目标材料的化学计量。这是脉冲激光沉积相对于其他沉积技术的一个重要优势。例如,对于生产复杂的陶瓷材料(例如高温超导体或磁性材料)非常重要。

脉冲

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